세계지적재사권기구가 2일 발표한 최신 보고서에 따르면 비록 코로나 사태의 영향을 받았지만 2020년 세계지적재산권기구를 통해 교부한 국제특허 출원량이 여전히 지속적으로 성장했다. 중국은 2019년 미국을 초월해 국제특허 출원량의 최대 내원국으로 부상한 후 2020년에도 계속 세계 특허 출원량 앞순위를 차지했다.

　　세계지적재산권기구 보고서는 2020년 세계 국제특허 출원량이 4% 증가한 27만 5900건에 달해 유사이래 최고 수치를 기록했다고 밝혔다. 중국의 국제특허 출원량은 동기대비 16.1% 증가한 6만 8720건으로 세계 1위를 차지했고 2위가 미국으로 국제특허 출원량이 5만 9230건에 달했다.  그 다음 순위로 일본, 한국, 독일이 각기 3,4,5위를 차지했다.

　　카스텐 핀크 세계지적재산권기구 수석 경제학자는 중국이 일약 1위를 차지한 것은 단번에 이루어진 것이 아니며 지난 20년간 중국의 혁신발전 여정으로부터 중국의 국제특허 출원량의 성장세가 강하고 잠재력이 거대함을 분명히 보아낼 수 있다고 지적했다.

　　다렌 탕 세계지적재산권기구 사무총장은 중국이 국제특허 출원량의 최대 내원국으로 된 것은 혁신 글로벌화의 추세를 보여주었으며 혁신은 더는 서방나라들의 독점이 아니라 최근 10년간 줄곧 그 중심이 동쪽으로 이전하고 있다고 지적했다. 그러면서 2020년 아시아의 국제특허 출원량이 전 세계 53.7%를 차지했으며 반면 10년 전에는 35.7%였다고 표시했다.